Fabrication of Nanoscaled Systems.
(05/04/2013)
The main goal of this project was to develop new lithographic and nanofabrication approaches for the assembly of novel nanoelectronic and nanomagnetic device structures. Our team's interests, expertise and facilities spanned materials synthesis, nanoscale characterization, nanoscale lithography and processing, and involved three institutions (University of Virginia, Notre Dame University, Lund University). To fabricate annular structures of giant magnetoresistive material for proposed vertical magnetic random access memory structures, we explored use of a novel negative inorganic resist, HSQ. Using electron and ion beam exposure of the resist (as well as direct focused ion beam sputtering of the GMR material) we were...
Tác giả: Hull, R.; Harriott, L.; Parrish, P.; Snider, G. |
Số trang: 10 |
Lĩnh vực: Viễn thông |
Năm XB: 2007 |
Loại tài liệu: Khác
Tài liệu cần xác thực trước khi tải
Tiêu đề | Tải về |
| Số trang:
| Loại file:
|
miễn phí
|
© Copyright 2012 Trung tâm Thông tin Khoa học và Công nghệ - Sở Khoa học & Công nghệ TP. Cần Thơ
Địa chỉ: 118/3 Trần Phú - P.Cái Khế - Q.Ninh Kiều - TPCT
Điện thoại: 0292 3824031 Fax: 0292 3812352
|
|
Lượt truy cập:
(Website trong thời gian thử nghiệm)